X光繞射儀(XRD)

儀器中文名稱 :多功能X光繞射儀

儀器英文名稱 : Multifunctional X-ray Diffractometer

儀器英文簡稱 : XRD D8

儀器設備說明 :

1. X光源：Cu靶

2.最大功率：3kW

3.測量幾何：直立式測角儀 Theta/Theta

4.2θ掃描範圍：0.15° 至 150°

5.最小步幅：0.0001°

6.入射光源模組：自動發散狹縫、Göbel反射鏡、Ge(004)單光器

7.繞射光源模組：自動防散射狹縫、0.2° Soller準直器、自動強度衰減器

8.化合物半導體偵測器：LYNXEYE XE-T，能量解析小於 380eV

9.動態光束優化系統（DBO）：適用粉末繞射之極低2θ起始角度

10. Compact Cradle Plus：提供Z/Chi/Phi三軸自由度

11. TWIST-TUBE：快速點和線光源切換

服務項目：

極低起始角廣角繞射分析(WXRD)、低掠角繞射分析(GID)、薄膜全反射分析(XRR)、搖擺曲線分析(Rocking Curve)、高解析繞射分析(HRXRD)、殘留應力分析(Residual stress)(準備中)、快速倒易空間(RSM) (準備中)。

樣本製備要求：

本機不測試具揮發性、腐蝕性、爆炸性和毒性樣品。若有隱蔽樣品危險性，導致人員受傷或儀器設備異常，應負起相關法律及賠償責任。
樣品應先自行製備完善，若為製備問題而無法完成量測，使用者應自負。
粉末樣品：應研磨至粒徑小於300 mesh或50μm（手摸無顆粒感）較佳，重量至少多於50mg(一匙微量藥勺)，多準備尤佳。
塊材樣品：可以是塊狀、片狀和帶有硬底材的薄膜或鍍層。大小介於1 x 1~2.5 x 2.5cm，高度小於0.4cm。量測面應乾淨平整，若粗糙度高建議拋光。
無帶基材的薄膜樣品：應平整不扭曲，大小大於3 x 3cm以利裁切及膠帶固定。
粉末分散溶液樣品：可滴於或塗佈於低背景強度的硬底材上(如低背景矽基板、非晶玻璃基板)後乾燥，並重複數次以提高粉末固定濃度，所用底材大小介於1 x 1~2.5 x 2.5cm。
全反射量測應為帶基材的薄膜或鍍層樣品，大小介於1 x 1~2.5 x 2.5cm，高度小於0.4cm，薄膜厚度小於100nm，粗糙度應足夠低於3~5nm，外觀如鏡面。
測試者應對樣品特性瞭解，包括基材種類、薄膜厚度、組成成分、元素種類、2θ掃描範圍等。

收費標準：

開放服務對象：學術單位、產業界

申請服務方式：

•委測時段請至國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統(https://vir.nstc.gov.tw/)查詢。

•預約前須先提供委測資訊表(https://reurl.cc/L5DyXL)至技術員信箱，信件標題請註明【校名+姓名】台科大XRDD8委測，待評估回覆確認後再預約時段。

•首次量測建議現場陪測，並於實驗當日準時攜帶（1）試片(自行妥善保存)、（2）國科會預約使用申請表(含教授簽名)、（3）樣品資訊表，至「工程一館E1-237 XRD實驗室」。

•採寄送或親送樣品者，請於實驗日3天前(不含例假日)將前述(1)(2)(3)物件送達「106335 臺北市大安區基隆路四段43號國立台灣科技大學貴儀中心工程一館E1-145辦公室」，若逾期未到致無法量測，仍須繳交當次時段基本費用，並重新預約時段。

注意事項：

•樣品不符合規定或對儀器設備、人員有危害風險，無條件取消該次預約。

•若隱蔽樣品危險性，導致人員受傷或儀器設備異常，應負起相關法律及賠償責任。

•委測完成之樣品應註記自行取回或寄回，若兩週內未取回將視為廢棄物處理。

•本儀器不提供數據研析，僅供原始數據與轉檔服務。

•本儀器檢測結果僅供學術研究，不得用於商業廣告、法律訴訟等用途。

•取消實驗請於3天前至預約系統取消；逾期將無法取消，且須酌收時段基本費。

聯絡資訊：

•儀器負責教授：周賢鎧教授

TEL: (02)2737-6665

E-Mail: sjou@mail.ntust.edu.tw

•儀器負責技術員：洪嘉彬先生

TEL: (02)2733-3141#6540、#3685

E-Mail: cbhung@mail.ntust.edu.tw