友善列印 - 場發射掃描/穿透式電子顯微鏡 (FE-S/TEM)

場發射掃描/穿透式電子顯微鏡 (FE-S/TEM)

Festem

儀器中文名稱：場發射掃描/穿透式電子顯微鏡

儀器英文名稱：Field Emission Scanning/ Transmission Electron Microscope

儀器英文簡稱：FES/TEM

儀器設備說明：

(1)加速電壓：200 KV

(2)TEM分辨率：0.12nm

(3)STEM HAADF分辨率：0.16 nm

(4)Super-X EDS 系統: 對稱設計的4個SDD，無窗式

(5)快速 EDS 收集成像: 像素停留時間10 µs

(6)EDX 立体角：0.9 srad

(7)camara length：12–5700 mm

(8)双傾斜試片座的最大傾斜角度：±30˚

(9)STEM Detector：BF、DF2、DF4、HAADF

服務項目：

針對不同類型的材料，提供高解析度的影像觀察及微區繞射分析。此外，也可進行樣品不同維度的影像及成分分析，並獲得樣品升溫反應資訊。

微結構觀察：明視野、暗視野影像分析；高解析影像分析。
電子繞射分析。
不同維度之EDS定性及半定量成分分析。
EDS搭配STEM的BF, DF2, DF4, HAADF偵測器同步獲取影像和光譜訊號可進行光譜原素全畫面(full frame)、選區(selected area)和線掃描(line scan)等掃描分析模式。
NBD strain分析。
3D電子束體層攝影術影像及成分分析(S/TEM and EDS)。
樣品升溫反應資訊。

樣本製備要求：

為減少儀器不必要的污染並確保系統穩定運作，本中心對試片種類及試片製備上有以下規定，凡未符合規定者，本單位有權拒絕受理。

˙必需已於校內【EM0000017504】(場發射槍穿透式電子顯微鏡FE-TEM)分析確認過樣品狀況。

˙預約使用本儀器者，請於預約時段前 7 天，主動且詳實填寫【EM011800】(場發射掃描/穿透式電子顯微鏡 Talos FES/TEM)儀器預約相關注意事項與樣品檢測申請表每一欄位，並完成回傳確認後，才可進行委託操作流程；未依規定完成者，將取消該預約時段。

˙粉末樣品(奈米材料): 粉末或奈米材料滴附在鍍碳銅網後，請務必於80℃以上溫度烘乾至少24小時，並於乾燥箱或真空狀態下保存。若樣品放入機台後，導致真空度異常(真空讀值高於標準值Accelerator= 1，Column = 1，Detection Unit < 25)，將立即中止實驗並取出樣品。

˙具磁性的樣品(凡含有Fe、Co、Ni等元素)禁用本機台。樣品替代製備方式:(粉末樣品-適用冷凍切薄機(Ultramicrotome)而塊材與薄膜樣品適用-場發射雙束型聚焦離子束顯微鏡(FIB))。

˙如需使用 NanoEx-i/v 加熱載座，請務必檢附高於 100 °C 分析溫度之 TGA 與 DSC 數據，以利評估並觀察樣品於升溫分析過程中的變化。

收費標準：(依使用狀況調整)

開放服務對象：校內、校外學術單位及產業界

儀器委託操作申請服務辦法

1.每月25日上午9點至國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統，預約下一個月序號，序號預約完畢後與技術員聯繫討論委託操作時段。

2. 取消預約請於5天前系統自行取消；否則酌收儀器時段基本費。

聯絡資訊：