友善列印 - 場發射穿透式電子顯微鏡 (FE-TEM)

場發射穿透式電子顯微鏡 (FE-TEM)

FETTEM

儀器中文名稱：場發射穿透式電子顯微鏡

儀器英文名稱：Field Emission Gun Transmission Electron Microscope

儀器英文簡稱：FE-TEM

儀器設備說明：

服務項目：

針對不同類型的材料，提供高解析度的影像觀察及微區繞射分析。此外，也可進行樣品成分分析。

微結構觀察: 明視野、暗視野影像分析；高解析影像分析。
電子繞射分析。
元素定點定性及半定量成分分析。
EDS搭配STEM的HAADF偵測器同步獲取影像和光譜訊號可進行光譜元素全畫面(full frame)、選區(selected area)和線掃描(line scan)等掃描分析模式；本機台目前此分析功能，偶會受環境因素影響，使電子束不穩而有無法正常分析的情形，因非屬常態，故本情形僅提供擬預約使用時之參考，仍需視使用當日電子束穩定情況而定。

樣本製備要求：

為減少儀器不必要的污染並確保系統穩定運作，本中心對試片種類及試片製備上有以下規定，凡未符合規定者，本單位有權拒絕受理。

˙預約使用本儀器者，請於預約時段前 7 天，主動且詳實填寫【EM0000017504】（場發射槍穿透式電子顯微鏡 FE-TEM）儀器預約相關注意事項與樣品檢測申請表每一欄位，並完成回傳確認後，才可進行委託操作流程；未依規定完成者，將取消該預約時段。

˙粉末樣品(奈米材料): 粉末或奈米材料滴附在鍍碳銅網後，請務必於80℃以上溫度烘乾至少24小時，並於乾燥箱或真空狀態下保存。若樣品放入機台後，導致真空度異常(真空讀值高於標準值Gun= 1，Column = 6，Camera < 30)，將立即中止實驗並取出樣品。

˙具磁性的樣品(凡含有Fe、Co、Ni等元素)禁用本機台。樣品替代製備方式:(粉末樣品-適用冷凍切薄機(Ultramicrotome)而塊材與薄膜樣品適用-場發射雙束型聚焦離子束顯微鏡(FIB))。

˙高分子樣品裂解溫度需達350℃以上，並需檢附TGA熱重分析數據。若樣品放入機台後，造成真空度異常(真空讀值高於標準值Gun = 1， Column = 6，Camera < 30)，將立即中止實驗並取出樣品。

收費標準：(依使用狀況調整)

開放服務對象:校內、校外學術單位及產業界。

儀器委託操作申請服務辦法

1.每月25日上午9點至國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統，預約下一個月時段。

2. 取消預約請於5天前系統自行取消；否則酌收儀器時段基本費。

聯絡資訊：